Investigation of Coulomb scattering on sSi/Si0.5Ge0.5/sSOI quantum-well p-MOSFETs

sSi/Si_0.5Ge_0.5/sSOI quantum-well (QW) p-MOSFETs with HfO₂/TiN gate stack were fabricated and characterized. According to the low temperature experimental results, carrier mobility of the strained Si_0.5Ge_0.5 QW p-MOSFET was mainly governed by phonon scattering from 300 to 150 K and Coulomb scattering below 150 K, respectively. Coulomb scattering was intensified by the accumulated inversion charges in the Si cap layer of this Si/SiGe heterostructure, which led to a degradation of carrier mobility in the SiGe channel, especially at low temperature.     

多通道海洋荧光激光雷达溢油监测系统

主要介绍了可用于海上溢油监测的多通道海洋荧光激光雷达系统及实验研究.该激光雷达系统采用Nd:YAG激光器三倍频激光(355 nm)作为探测光源,使用口径为20 cm的卡塞格林望远镜接收海面返回的荧光信号,经光栅光谱仪分光后对380 - 690 nm范围内的荧光信号进行采集.通过实验室激光诱发油样本的荧光数据分析,研究了...     

地下三维目标电磁散射特性研究

本文推出集总电阻加载圆柱形天线在时域有限差分（FD-TD）法中的计算公式。对Mur二阶吸收边界条件在三维FD-TD法计算中的稳定性进行了研究，提出保证Mur二阶吸收边界条件稳定所必须注意的问题。在集总电阻加载圆柱形天线激励下，对色激媒质中三维目标的瞬态电磁散射特性进行了计算和分析，并将部分计算结果与实验测试的结果进行了比较，二者具有比较好的一致性。研究了色散媒质和目标特性对目标回波信号的影响，并对有耗媒质中细导线型目标的瞬态散射机理进行了分析。     

真空冷喷涂技术制备塑料染料敏化太阳能电池中TiO_2散射层及其性能表征

塑料染料敏化太阳能电池(DSC)由于其质量轻、形状灵活可变、适用于低成本的连续式生产而成为一种很有发展前景的光化学太阳能电池。为了提高电池的效率,在室温下用真空冷喷涂技术将亚微米级制备在TiO2纳米晶体层表面形成一层光散射层。通过研究光散射层的影响以及散射层与纳米晶TiO2层的结合以理解电池效率提高的原因。为了对比,使用乙醇中添加亚微米级Al2O3或TiO2颗粒形成的悬浮液,采用溅射沉积法,制备出两种散射层。结果显示,所有三种散射层对光的反射能力均强于TiO2纳米晶体层。无照电流结果表明NC+VCSTiO2电池的散射层与TiO2纳米晶体层连接比另外两对组合更有效。因此,由吸附在散射层粒子表面的分子所决定的光诱导电子可以有效转移到TiO2纳米晶体层,并最终输出到外电流回路。假设由于散射效应电池效率提升13%,那么散射层与TiO2纳米晶体层层之间的良好结合贡献10%,最终导致使用NC+VCS-TiO2散射层的塑料染料敏化太阳能电池效率提升~23%。此外,NC+VCS-TiO2散射层的抗弯性能优于NC+SD-TiO2和NC+SD-Al2O3电池。     

舰船典型结构电磁散射特性分析

运用物理光学、几何光学、等效电流等方法对甲板、船舷和塔台等典型结构散射特性的分析,展开对舰船的电磁散射特性研究。通过对典型舰船目标电磁散射特性的仿真分析,验证电磁散射特性方法的正确性与计算可行性,给出不同方位、俯仰角目标散射特性与海面散射特性的对比分析结果,最终得出船舷可作为对舰船成像识别最佳区域的结论。     

VFTO下变压器绕组的EMTP模型

为开展VFTO对变压器影响的研究,先由变压器绕组的S参数计算所需的电压传输函数,然后通过矢量匹配法对电压传输函数进行有理函数逼近,再应用多点Pade逼近降阶,在此基础上实现电路形成了变压器绕组的通用宽频EMTP电路模型。该模型的仿真结果与实测结果吻合,表明该方法简单、准确。     

海面与上方目标复合电磁散射的矩量法研究

采用Monte Carlo方法模拟了一维PM谱海面.运用矩量法研究了一维PM谱海面及其上方二维矩形截面导体柱的复合电磁散射特性,并将计算结果与FDTD结果进行了比对,验证了该算法的正确性。数值计算得到了复合散射系数随散射角的变化曲线,讨论了海面风速、矩形截面柱尺寸和倾角、矩形截面柱中心距离粗糙面的高度对复合散射系数的影响。结果表明,矩形截面柱参数对非镜向复合散射散射系数影响显著,而对镜向散射系数较小。     

间苯二酚-甲醛与Ni(OH)2复合气凝胶结构特性研究

以间苯二酚、甲醛、碳酸氢钠、硝酸镍为原料,采用溶胶一凝胶法和超临界干燥工艺制得间苯二酚一甲醛与Ni(OH)2复合气凝胶,对不同pH值和Ni(OH)2含量的复合气凝胶结构进行研究。通过小角X射线散射实验测量气凝胶的散射强度,分析了复合气凝胶平均粒径、比表面积和分形行为等特性。结果表明：酸性条件比碱性条件下制成的复合气凝胶粒径小,团聚现象不明显;且随着复合气凝胶中Ni(OH)2的质量分数增加,其结构复杂度增加,胶体平均粒径和比表面积均增大。     

无规入射散射系数测量的研究

无规入射散射系数是在扩散声场中界面散射声能与总反射声能之间的比值,它是采用计算机模拟来对室内声场进行预测的重要参量。国际标准化组织(ISO)即将公布其对无规入射散射系数的定义及其在混响场中的测量方法。关于这一方法的有效实施以及准确地获得实验数据,显得尤为重要。根据测量的基本原理建立了完整的无规入射散射系数测量系统,并给出典型散射试件的测量结果,分析了测量中的一些技术问题。     

Resolution Enhancement Technology:Integrated Process Solutions using OPC

DUV lithography, using the 248 nm wavelength, is a viable manufacturing option for devices with features at 130 nm and less. Given the low kl value of the lithography, integrated process development is a necessary method for achieving acceptable process latitude. The application of assist features for rule based OPC requires the simultaneous optimization of the mask, illumination optics and the resist.Described in this paper are the details involved in optimizing each of these aspects for line and space imaging.A reference pitch is first chosen to determine how the optics will be set. The ideal sigma setting is determined by a simple geometrically derived expression. The inner and outer machine settings are determined, in turn,with the simulation of a figure of merit. The maximum value of the response surface of this FOM occurs at the optimal sigma settings. Experimental confirmation of this is shown in the paper.Assist features are used to modify the aerial image of the more isolated images on the mask. The effect that the diffraction of the scattering bars (SBs) has on the image intensity distribution is explained. Rules for determining the size and placement of SBs are also given.Resist is optimized for use with off-axis illumination and assist features. A general explanation of the material' s effect is discussed along with the affect on the through-pitch bias. The paper culminates with the showing of the lithographic results from the fully optimized system.